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                      新聞中心

                      Environmental Science & Technology報道我院新型選擇性抗性基因降解技術

                      時間:2020/03/19

                             抗生素的不合理使用導致抗性細菌及抗性基因的大量產生AG欧洲厅,已經成為全球關注的焦點問題,據估計到2050年將會有每年上千萬人因此而死亡。氯和紫外等水處理消毒技術雖然能夠較為有效地殺滅抗性細菌,但并沒有從根本上消除抗藥性風險,因為抗性基因仍然保持活性。然而AG欧洲厅,氯和紫外等傳統消毒技術很容易受水中污染物干擾AG欧洲厅,不能有效去除抗性基因AG欧洲厅。因此AG欧洲厅,發展具有選擇性的抗性基因降解技術勢在必行。


                             我院袁青彬老師和萊斯大學Alvarez J.J. Pedro教授合作,利用分子印跡能夠選擇性識別污染物的特征,開發了基于DNA分子印跡的抗性基因選擇性光降解技術AG欧洲厅。本項目將DNA分子印跡負載到非金屬和環境友好的C3N4光催化材料表面,能夠選擇性地識別抗性基因,經過紫外光(360nm)降解30min即可降解超過99.9%的抗性基因,在模擬污染物和實際污水中均表現出良好的選擇性。此外,負載DNA分子印跡的C3N4還有效地實現抗性基因片段化降解,從而避免了抗性基因的再修復和重新表達。該技術為城市污水等環境中抗藥性的控制提供了新思路。

                             研究成果已被環境科學類環境科學與工程領域頂級期刊Environmental Science & Technology接收,并于近日在線刊出,我院為第一單位AG欧洲厅。該研究受國家自然科學基金資助。

                      論文鏈接:https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.est.9b06926


                      作者:環境科學與工程學院AG欧洲厅;審核:張永軍



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